|
Техническая документация
Какой фоторезист выбрать
Фоторезист в аэрозольной упаковке
Для контроля дозы экспонирования мы рекомендуем
УФ-радиометр, модель 06, производства "ТКА-ПМК"
Фоторезисты позитивные для электроники
Фоторезисты позитивные для производства печатных плат
Фоторезисты негативные для электроники
Фоторезисты для полиграфии
Фоторезист для обращенной литографии
Сниматель пленок фоторезиста СПР-01Ф
Универсальный проявитель для жидких позитивных фоторезистов УПФ-1Б
Проявитель позитивных фоторезистов для голографии ПГФ-1А.
Предназначены для использования в качестве защитного светочувствительного материала
в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов,
интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, блестящая, без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
12,2-17,4 |
18,2-28,3 |
24,0-34,3 |
|
4 |
Минимальная ширина воспроизводимого элемента, мкм, не хуже
|
0,8 |
1,2 |
1,8 |
|
5 |
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,9-1,1 |
1,4-1,6
|
1,9-2,1 |
|
6 |
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
30 |
30
|
30
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ 2378-013-29135749-2010 на серию ФП-М-09 в формате PDF, 301 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов,
шкал, сеток, печатных плат.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
блестящая без разрывов
|
|
3
|
Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более
|
2,0
|
|
4
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
6,0 - 6,5
|
|
5
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
1,0
|
|
6
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
1,0 - 1,2
|
|
7
|
Число оборотов при нанесении, об/мин
|
3000,0
|
|
8
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
15,0
|
|
9
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
Рекомендации по применению
ТУ 2378-005-29135749-2007 на ФП-383 в формате PDF, 345 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением
германия и кремния, гальваническим осаждением металлов.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
20,0
|
|
4
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
6 - 8
|
|
5
|
Устойчивость пленки фоторезиста к травителю для кремния
(HF+HNO3+CH3COOH - 1:10:1), не менее, минут
|
14,0
|
|
6
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
Рекомендации по применению
ТУ 2378-004-29135749-2007 на ФП-25 в формате PDF, 267 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых приборов, шкал, сеток.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-коричневого цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, блестящая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
9,5-13,0
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
0,8
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,9 - 1,1
|
|
6
|
Число оборотов при нанесении, об/мин
|
3000,0
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ Ф-11833389-0-2003 на ФП-РН-7С с изм.1 в формате PDF, 589 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых приборов, шкал, сеток.
Единственный отечественный фоторезист,
который может наноситься распылением на
подложки с сильно развитой топологией.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-коричневого цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, блестящая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
2,2-2,7
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
1,0
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,5 - 0,8
|
|
6
|
Число оборотов при нанесении, об/мин
|
3000,0
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ Ф-2378205-006-29135749-2007 на ФП-РН-7Сэ в формате PDF, 506 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых приборов, больших и сверхбольших интегральных схем с
использованием контактного и проекционного экспонирования в области длин волн
300-405 нм. Выпускается трех марок А, В и С
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, блестящая, без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
5,0-9,5 |
18,2-28,3 |
24,0-34,3 |
|
4 |
Минимальная ширина воспроизводимого элемента, мкм, не хуже
|
0,5 |
1,2 |
1,8 |
|
5 |
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,4-0,6 |
1,35-1,65
|
1,8-2,2 |
|
6 |
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
30 |
30
|
30
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ 2378-011-29135749-2010 на ФП-4-04 марок А,В и С в формате PDF, 300 кБ
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
печатных плат, микросхем, сеток, шкал, масок с применением гальванической
обработки.
Выпускается два типа: марка А (синезеленого цвета) и марка Б (краснокоричневого цвета)
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич или синезеленого цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость, сСт
|
22,0 - 40,0
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
3,0
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
2,3 - 2,8
|
|
6
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
|
7
|
Светочувствительность, мдж/см2, не хуже
|
150,0
|
ТУ Ф-11733389-0-2003 на ФП-27-18БС с изм.1 в формате PDF, 651 кБ
Толстослойный фоторезист с повышенной термостойкостью и пластичностью для i-линии ртутных ламп.
Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве
полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным травлением
германия и кремния.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Прозрачная жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, без разрывов
|
|
3
|
Разрешающая способность, мкм, не хуже |
8.0 |
|
4 |
Толщина пленки фоторезиста , мкм
|
3.6-4.5 |
|
5 |
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ 2378-010-29135749-2010 на ФП-4-04Т в формате PDF, 285 кБ
Толстослойный фоторезист с повышенной термостойкостью для реализации фотолитографических
процессов в производстве полупроводниковых интегральных приборов и микросхем с глубинным
травлением германия, кремния, арсенида галлия и металлов, а также для гальванического
осаждения металлов.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Прозрачная жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая, без разрывов
|
|
3
|
Разрешающая способность, мкм, не хуже |
20,0
|
|
4 |
Толщина пленки фоторезиста , мкм
|
6,0-8,0 |
|
5 |
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
Фоторезист ФП-051Т (ТУ 6-14-919-86) предназначен для реализации
фотолитографических процессов в производстве больших интегральных схем
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость красно-корич цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
15,5 - 19,5
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
2,0
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
1,3
|
|
6
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
15,0
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
Предназначенный для использования в качестве защитного светочувствительного
материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов,
интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость темно-красного цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
11,0-21,0
|
21,0-41,0
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
1,8
|
1,8
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
1,0-1,1
|
2,0-2,1
|
|
6
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
30,0
|
30,0
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ Ф-11833392-0-2006 на ФП-051Ку в формате PDF, 594 кБ
Единственный отечественный фоторезист предназначенный для процессов травления ионной бомбардировкой (РИТ)
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость темно-красного цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без радиальных полос |
|
3
|
Светочувствительность, мДж/см2, не более
|
60 |
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
2,0
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
1,5-1,6
|
|
6
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
30,0
|
|
7 |
Термостойкость, 0C, не менее |
130 |
|
8 |
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
Предназначен для реализации
фотолитографических процессов в
производстве фотошаблонов, для
изготовления предварительно очувствленных
заготовок фотошаблонов. Может
использоваться в качестве защитного
светочувствительного материала в фотолитографических процессах
при изготовлении
полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов,
шкал, сеток, печатных плат и др.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость темно-красного цвета без осадка
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
5,0-9,5
|
12,2-17,4
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
0,5
|
0,8
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,4-0,6
|
0,9-1,1
|
|
6
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
30,0
|
30,0
|
|
7
|
Рекомендуемый проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ 2378-012-29135749-2010 на ФП-051Шу-0,5 и ФП-051Шу-1,0 в формате PDF, 294 кБ
Предназначен для реализации контактных и проекционных фотолитографических
процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Жидкость темно-красного цвета
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без радиальных полос
|
|
3
|
Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более
|
0,01 (г-1)
|
0,01 (г-1)
|
0,01 (г-1)
|
0,01 (г-1)
|
|
4
|
Массовая доля воды, в процентах, не более
|
1,0
|
1,0
|
1,0
|
1,0
|
|
5
|
Разрешаюшая способность, мкм, не более
|
0,5
|
0,8
|
1,2
|
1,8
|
|
6
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
0,45-0,55
|
1-1,1
|
1,5-1,6
|
2,0-2,1
|
|
7
|
Кинематическая вязкость, сСт
|
6,0-11,0
|
11,0-21,0
|
15,0-35,0
|
21,0-41,0
|
|
8
|
Термостойкость, град.Цельсия
|
140,0
|
140,0
|
140,0
|
140,0
|
|
9
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
25,0
|
30,0
|
30,0
|
30,0
|
|
10
|
Локальная разнотолщинность пленки, нм, не более
|
10
|
10
|
10
|
10
|
|
11
|
Светочувствительность, мдж/см2, не более
|
40
|
50
|
65
|
80
|
|
12
|
Адгезия фоторезиста по 2 мкм. элементу
|
хорошая
|
|
13
|
Проявитель
|
УПФ-1Б
|
ТУ Ф-11833391-0-2006 на ФП-05Ф - ФП-20Ф с изм. 1 в формате PDF, 675 кБ
Предназначены для реализации фотолитографических процессов в производстве
интегральных микросхем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных
диэлектриков, печатных микроплат, форм, и других изделий с использованием кислых
и щелочных травителей металлов и сплавов (медь, алюминий, нихром и др.), для
гальванического осаждения металлов.
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Прозрачная жидкость коричневого цвета
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
10-13
|
140-160
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
8,0
|
8,0
|
|
5
|
Проявитель
|
Уайт-спирит
|
ТУ 2378-014-29135749-2010 на фоторезист ФН-11Сн и ФН-11СКн в формате PDF, 156 кБ
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Прозрачная жидкость
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
25-30
|
180-250
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
8,0
|
8,0
|
|
5
|
Толщина пленки, мкм
|
0,9-1,1
|
3,5-4,5
|
|
6
|
Проявитель
|
Уайт-спирит
|
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Прозрачная жидкость коричневого цвета
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Гладкая без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
18-25
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не более
|
8,0
|
|
5
|
Толщина пленки, мкм
|
0,9-1,11
|
|
6
|
Проявитель
|
Уайт-спирит, ПН-1Ф
|
Проявитель для негативных фоторезистов
ТУ Р-11433386-4-О-92 на ФН-11Су и ФН-11СКу с изм.1 и 2 в формате PDF, 406 кБ
Фоторезист ФП-ПЛ5 предназначен для изготовления предварительно очувствленных
офсетных пластин
|
1
|
Внешний вид фоторезиста
|
Вязкая жидкость синего цвета
|
|
2
|
Внешний вид пленки фоторезиста
|
Блестящая, без разрывов
|
|
3
|
Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек
|
17,0
|
|
4
|
Разрешающая способность, мкм, не хуже
|
15,0
|
|
5
|
Толщина пленки фоторезиста, мкм
|
2,0
|
|
6
|
Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее
|
20,0
|
|
7
|
Светочувствительность, мдж/см2, не хуже
|
150,0
|
Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным
фоторезистом, однако, способен к обращению
изображения с образованием негативного
образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии.
|
1
|
Вязкость
|
сСт
|
17-20
|
|
2
|
Толщина сходная
|
мкм
|
1,8-2,2
|
|
3
|
Чувствительность
|
мдж/см2
|
30-60
|
|
4
|
Стойкость в проявителе позитивного
изображения, не менее
|
мин
|
30
|
|
5
|
Проявитель
|
УПФ-1Б
|
Инструкция по применению ФПН-20-ИЗО
СПР-01Ф предназначен для снятия с подложки
сильно структурированных пленок позитивных фоторезистов.
|
1
|
Внешний вид
|
прозрачная бесцветная жидкость
|
|
2
|
Температура кипения, 0С
|
195-205
|
Инструкция по применению СПР-01Ф
ТУ-2378-008-29135749-2007 на сниматель СПР-01Ф в формате PDF, 184 кБ
Предназначен для проявления пленок позитивных фоторезистов как отечественного,
так и импортного производства.
Проявитель УПФ-1Б является концентратом,
требующим разбавления дистиллированной
или деионизованной водой.
|
1
|
Внешний вид
|
прозрачная бесцветная жидкость
|
|
2
|
Концентрация раствора, г/моль
|
1,42-1,45
|
Инструкция по применению УПФ-1Б
ТУ-2378-007-29135749-2007 на проявитель УПФ-1Б в формате PDF, 235 кБ
ПГФ-1А предназначен для проявления скрытого голографического изображения в позитивном фоторезисте после экспонирования
лазерным излучением. Используется в процессах изготовления мастер-диска.
|
1
|
Внешний вид
|
прозрачная бесцветная жидкость
|
|
2
|
Концентрация раствора, г/моль
|
1,67-1,73
|
|