| Автор: Рудницкий Илья | 2007-03-09 09:41:13 | |||
| Тема: источник УФ... | ||||
 |
||||
|
||||
|
||||
|
Здравствуйте. Мы занимаемся полиграфией (шелкография). 1. Очень заинтересованы технологией пескоструйной гравировки. Хотелось бы узнать какой источник УФ используется для экспонирования фоторезиста. (можно ли ДРТ-100 и какое тогда время засветки) Сообщите пожалуйста требуемую мощность лампы (Вт/см) Какое давление нужно на пескоструйном аппарате для обработки стекла и керамики? 2. Сохранит ли фотолак POSITIV RESIST защитные свойства в процессе электролиза? (Например покрытие медью стальной поверхности.) Заранее благодарен Рудницкий Илья |
||||
