|
Мы можем предложить Вашему вниманию негативный ФН-11СКу (с толщиной слоя 2,2-2,8 мкм). Мы знаем, что этот класс фоторезистов использовался в в качестве защитного слоя для пайки во времена СССР. Пленка негативного фоторезиста ФН-11СК после экспонирования представляет собой трехмерный, структурированный фотохимически циклокаучук с ковалентными химическими связями между полимерными цепочками, т.е. сшитый полимер. Он должен в принципе удовлетворять вашему ТЗ, но все это требует экспериментальной проверки.
|
