| Автор: Николай | 2007-04-05 09:28:37 | |||
| Тема: Re: Отличия фоторезистов | ||||
 |
||||
|
||||
|
||||
|
С точки зрения химического состава, указанные Вами фоторезисты существенно отличаются друг от друга. С точки зрения фотолитографии - параметры фоторезистов также отличаются друг от друга, хотя во многих процессах фоторезисты взаимозаменяемы, но не везде. Фоторезист ФП-383 является наиболее распространенным и выпускается примерно с 1980 года. Он обладает высокой светочувствительностью и адгезией, но используется только для контактной печати. Пленка фоторезиста ФП-РН-7С обладает большей гибкостью, чем у фоторезиста ФП-383, остальные параметры близки. В принципе они взаимозаменяемы в большинстве случаев. Вопрос только в исторически сложивщейся технологической документации предприятий потребителей, где представлена конкретная марка фоторезиста. Фоторезисты ФП-25, ФП-4, ФП-201 - одного класса, одной и той же области применения и различаются устойчивостью в травителях и обеспечивают разные глубины травления подложки. Среди этих фоторезистов исторически более распространенным является фоторезист ФП-25. Для решения большинства проблем глубинного травления подложек достаточно применения фоторезиста ФП-25. Фоторезисты ФП-05Ф, ФП-10Ф, ФП-15Ф и ФП-20Ф - это новый класс фоторезистов, опытное производство которых начато с 2002 г. Они могут использоваться как для контактной, так и для проекционной фотолитографии. Эти фоторезисты обеспечивают высокое разрешение до 0,8 мкм (ФП-10Ф) и до 0,4 мкм (ФП-05Ф), имеют практически вертикальные стенки при проявлении и высокую термостойкость (до 140 градусов Цельсия), требуемую в процессах плазмохимического травления. Однако светочувствительность этих фоторезистов несколько хуже, чем у фоторезистов ФП-383 и ФП-РН-7С. Резюме: области применения указанных вами фоторезистов существенно отличаются. |
||||
